• 新聞詳情

    CVD氣相沉積應用

    日期:2022-09-30 08:24
    瀏覽次數:63
    摘要:
    CVD氣相沉積應用
      CVD(CVD氣相沉積)技術常常通過反應類型或者壓力來分類,包括低壓CVD(LPCVD),常壓CVD(APCVD),亞常壓CVD(SACVD),超高真空CVD(UHCVD),等離子體增強CVD(PECVD),高密度等離子體CVD(HDPCVD)以及快熱CVD(RTCVD)。然后,還有金屬有機物CVD(MOCVD),根據金屬源的自特性來保證它的分類,這些金屬的典型狀態是液態,在導入容器之前必須先將它氣化。不過,容易引起混淆的是,有些人會把MOCVD認為是有機金屬CVD(OMCVD)。
      過去,對LPCVD(CVD氣相沉積)和APCVD*常使用的反應室是一個簡單的管式爐結構,即使在今天,管式爐也還被廣泛地應用于沉積諸如Si3N4 和二氧化硅之類的基礎薄膜(氧氣中有硅元素存在將會*終形成為高質量的SiO2,但這會大量消耗硅元素;通過硅烷和氧氣反應也可能沉積出SiO2 -兩種方法均可以在管式爐中進行)。
      而且,*近,單片淀積工藝推動并導致產生了新的CVD反應室結構。這些新的結構中絕大多數都使用了等離子體,其中一部分是為了加快反應過程,也有一些系統外加一個按鈕,以控制淀積膜的質量。在PECVD和HDPCVD系統中有些方面還特別令人感興趣是通過調節能量,偏壓以及其它參數,可以同時有沉積和蝕刻反應的功能。通過調整淀積:蝕刻比率,有可能得到一個很好的縫隙填充工藝。

    尊敬的客戶:

      本公司還有流延涂布機、三靶磁控濺射、小型行星真空攪拌機等產品,您可以通過網頁撥打本公司的服務電話了解更多產品的詳細信息,至善至美的服務是我們的追求,歡迎新老客戶放心選購自己心儀產品,我們將竭誠為您服務!
    亚洲图片另类小说,欧妇女乱妇女乱视频,国产精品青青在线一区,亚洲视频在线看18勿入,国产精品日本欧美一区二区