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    磁控濺射鍍膜儀的特點

    日期:2022-11-26 10:39
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    摘要:
     
          磁控濺射鍍膜儀設備作為現在的的外表處理設備,其效果是非常大的,不只使用范圍廣泛,在使用上還可以給人們帶來便利。
          磁控濺射鍍膜儀具有以下明顯特點:
          1、成膜厚度工藝參數精準可控。經過調整爐內氣壓、濺射功率、襯底溫度、磁場以及電場參數等,可方便地對鍍層沉積速度和厚度進行精準控制,誤差小,一致性好;
          2、膜層靈活多樣,基材適應性廣。磁控系統可生成純金屬或配比精準、穩定的合金鍍膜,能滿意薄膜的多樣性以及高精度要求,并且基材為金屬或非金屬均可,靈活性好。
          磁控濺射鍍膜儀相對濕法鍍膜的優勢在于,針對分子結構復雜的高分子資料的外表鍍膜,即使有不同外表鍍覆資料要求,也無需替換生產線,只需調整不同的工藝參數,替換相應的靶材,便能快速快捷地實現針對不同基材資料的不同鍍層的涂覆;相對于熱噴涂等工藝,磁控鍍膜系統的鍍層外表質量更好、精度高,因此適合精度要求高的電子產品的外表金屬化。筆者選用磁控鍍膜系統方法對PPS,PEEK樣件外表進行金屬化鍍膜,期待解決某些電子裝備產品中PPS,PEEK 高分子輕量化資料應用中的外表金屬化需求。





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