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    有關三靶磁控濺射的產品描述

    日期:2022-09-29 05:18
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    摘要:
    三靶磁控濺射的產品描述:

        1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa

        2. 系統真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S

        3. 系統從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達到6.6×10-4 Pa;

        4. 系統停泵關機12小時后真空度:≤5Pa

        5. 濺射真空室1套,立式上開蓋結構,尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結構,氬弧焊接,表面進行電化學拋光,內含防污內襯,可內烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內有照明系統

        6. 磁控濺射系統 3套, 濺射室中配3套50mm高性能永磁共焦磁控濺射靶(濺射靶角度可調),各靶可獨立/順次/共同工作,磁控靶RF、DC、MF兼容,可以濺射磁性材料,磁控靶與基片距離可調,配備3套進口SMC旋轉氣動控制擋板組件;配2臺500w直流電源(不小于500W)和1臺全自動匹配射頻電源(不小于500W);提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

        7. 旋轉基片臺 1套,樣品臺可放置不小于100mm樣品1片,具有連續旋轉功能,旋轉0—30轉/分連續可調?;訜釡囟龋菏覝亍?00°C連續可調,由熱電偶閉環反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動控溫及數字顯示

        8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

        9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;

        10. 抽氣機組及閥門、管道 1套,包含1臺進口復合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國普發Hipace700分子泵);1臺機械泵(4L/S) ,1臺DN40氣動截止閥,機械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動閘板閥1臺(用于復合分子泵與真空室隔離),節流閥1臺,DN40旁抽氣閥1臺,壓差式充氣閥1臺;管道采用不銹鋼三通及波紋管,

        11. 安裝機臺架組件 1套,由上等方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動。

        12. 真空測量系統 1套,濺射室采用進口INFICON復合計進行測量。

        13. 具備對泵、靶、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施;完善的邏輯程序互鎖保護系統。

        14. 系統采用PLC+工控機+觸摸屏全自動控制方式,可進行自動抽氣及程序設定、計算機實時顯示記錄真空度及加熱溫度、計算機設定顯示直流電源、射頻電源功率參數、計算機設定顯示MFC的設定控制等、計算機設定顯示當班狀態、樣品轉速等。

        15. 配備循環水機一臺、靜音空壓機一臺,專用工具(含工具箱)1套,備品備件 1套



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