• 產品詳情
    • 產品名稱:偏置靶型單靶磁控鍍膜儀

    • 產品型號:CY-MSP300G-RB
    • 產品廠商:泰諾
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    簡單介紹:
    偏置靶型單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。偏置靶型單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗
    詳情介紹:

    本設備為偏置靶型單靶磁控鍍膜儀,磁控靶偏置于腔體一側,濺射范圍可覆蓋樣品臺一半,通過樣品臺旋轉可以實現更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設備外形為桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗。

    偏置靶型單靶磁控鍍膜儀技術參數:

    CY-MSP300G-RB rotate bias) 桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀

    樣品臺

    尺寸

    φ150mm

    轉速

    轉速0-20rpm可調

    磁控濺射靶

    數量

    2” x1  偏置于腔體一側

     

     

    真空腔體

    腔體尺寸

    φ300mm X 200mm

    觀察窗口

    全向可視

    腔體材料

    高純石英

    開啟方式

    頂蓋拆卸式

    下法蘭

    裝有旋轉式樣品臺及進出氣口

    真空系統

    機械泵

    雙級旋片泵

    抽氣接口

    KF16

    分子泵

    渦輪分子泵

    抽氣接口

    KF40

    真空測量

    電阻規+電離規復合真空計

    排氣接口

    KF40

    極限真空

    1.0E-3Pa

    供電電源

    AC 220V 50/60Hz

    抽氣速率

    前級泵 1.1L/s 分子泵:60L/S

    電源配置

    數量

    直流電源 x1

    *大輸出功率

    直流電源300W

     

    其他

    供電電壓

    AC220V,50Hz

    整機尺寸

    500mm X 320mm X6200mm

    整機功率

    2kW

     

     

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